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投資要點　　本周五（12 月09 日）有一家科創(chuàng)板上市公司“微導納米”詢價。　　微導納米（688147）：公司以原子層沉積（ALD）技術(shù)為核心，主要從事先進微、納米級薄膜沉積設備的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售；目前，公司設備產(chǎn)品集中應用于光伏及半導體領(lǐng)域。公司2019-2021 年分別實現(xiàn)營業(yè)收入2.16 億元/3.13 億元/4.28 億元，YOY 依次為414.94%/44.82%/36.91%,三年營業(yè)收入的年復合增速116.94%；實現(xiàn)歸母凈利潤0.55 億元/0.57 億元/0.46 億元， YOY 依次為292.93%/4.52%/-19.12%，自2019 年公司歸母凈利潤轉(zhuǎn)虧為盈。最新報告期，2022Q3 公司實現(xiàn)營業(yè)收入3.85 億元，同比增長66.80%；實現(xiàn)歸母凈利潤-0.03億元，同比下降115.83%。根據(jù)初步預測，2022 年公司實現(xiàn)歸母凈利潤為2,300至4,200 萬元，較上年度同比下降50.12%至8.92%。　　投資亮點：1、公司是國內(nèi)少數(shù)以ALD 技術(shù)為核心的薄膜沉積設備生產(chǎn)商，有望受益于光伏行業(yè)的景氣發(fā)展、以及太陽能電池片由PERC 工藝向新型高效電池TOPCon 發(fā)展所帶來的設備價值量提升。在傳統(tǒng)工藝中，通過CVD 與PVD 工藝所生成的膜較難突破10nm 以下的厚度極限，因此原子層沉積（ALD）工藝具有較為顯著的相對優(yōu)勢，尤其在光伏領(lǐng)域的高效電池TOPCon 電池隧穿層的沉積工藝中尤為凸顯。公司長期深耕ALD 鍍膜設備領(lǐng)域，產(chǎn)品性能已達業(yè)內(nèi)領(lǐng)先水平，有望受益于下游光伏行業(yè)的景氣發(fā)展及技術(shù)迭代；一方面，伴隨著光伏行業(yè)持續(xù)景氣、電池片廠商擴產(chǎn)加速，2021 年我國電池片產(chǎn)量同比增長約46.8%；另一方面，太陽能電池片技術(shù)路線正由PERC 工藝向新型高效電池TOPCon 等方向推進，根據(jù)公司招股書披露，PERC 產(chǎn)線的生產(chǎn)設備價值量占比為24.71%-26.73%，而TOPCon 產(chǎn)線的生產(chǎn)設備價值量占比高達33.00%-39.12%、其生產(chǎn)設備價值量較PERC 產(chǎn)線有所提升。目前，公司依托在ALD 技術(shù)領(lǐng)域的先發(fā)優(yōu)勢，已覆蓋包括通威太陽能、隆基股份、晶澳太陽能、阿特斯、天合光能等在內(nèi)的多家知名太陽能電池片生產(chǎn)商； 截至2022年9 月末，公司在手訂單合計19.75 億元。2、公司積極開發(fā)了半導體薄膜沉積設備，并實現(xiàn)了國產(chǎn)ALD 設備在28nm 集成電路制造關(guān)鍵工藝中的突破。　　公司基于在光伏領(lǐng)域的技術(shù)積累，開發(fā)了技術(shù)難度更高的半導體薄膜沉積設備，并成為國內(nèi)首家將量產(chǎn)型High-k 原子層沉積設備應用于28nm 節(jié)點集成電路制造前道生產(chǎn)線的國產(chǎn)設備公司，其產(chǎn)品的工藝關(guān)鍵性能參數(shù)已達到國際同類水平；目前，公司產(chǎn)品已先后獲得下游多家知名半導體客戶重復訂單認可。從行業(yè)發(fā)展來看，我國半導體薄膜沉積設備基本由AMAT、ASM、Lam 等國際巨頭壟斷，國產(chǎn)化率較低、2020 年僅為8%，存在較大的國產(chǎn)替代空間。　　同行業(yè)上市公司對比：根據(jù)業(yè)務的相似性，選取捷佳偉創(chuàng)、北方華創(chuàng)、拓荊科技、以及中微公司等專用設備廠商為微導納米的可比上市公司。從上述可比公司來看，2021 年平均收入規(guī)模為46.49 億元、PE-TTM（算數(shù)平均）為66.02X，銷售毛利率為37.84%；相較而言，公司的營收規(guī)模相對較小，但毛利率水平均處于同業(yè)的高位區(qū)間。　　風險提示：已經(jīng)開啟詢價流程的公司依舊存在因特殊原因無法上市的可能、公司內(nèi)容主要基于招股書和其他公開資料內(nèi)容、同行業(yè)上市公司選取存在不夠準確的風險、內(nèi)容數(shù)據(jù)截選可能存在解讀偏差、具體上市公司風險在正文內(nèi)容中展示等。【免責聲明】本文僅代表第三方觀點，不代表和訊網(wǎng)立場。投資者據(jù)此操作，風險請自擔。

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